<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">novtexmech</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Мехатроника, автоматизация, управление</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Mekhatronika, Avtomatizatsiya, Upravlenie</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1684-6427</issn><issn pub-type="epub">2619-1253</issn><publisher><publisher-name>Commercial Publisher «New Technologies»</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.17587/mau.18.631-636</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">novtexmech-480</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>АВТОМАТИЗАЦИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>AUTOMATION OF TECHNOLOGICAL PROCESSES</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>Особенности оптимального управления гальваническими процессами в многоанодной ванне с различными значениями силы тока</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Specific Features of the Optimal Control of the Electroplating Processes in a Multianode Bath with Different Amperage Values</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Соловьев</surname><given-names>Д. С.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Solovjev</surname><given-names>D. S.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">solovjevdenis@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Мукина</surname><given-names>И. А.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Mukina</surname><given-names>I. A.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">good.win32@yandex.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Литовка</surname><given-names>Ю. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Litovka</surname><given-names>Yu. V.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">polychem@list.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Тамбовский государственный технический университет</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Tambov State Technical University</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2017</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>28</day><month>08</month><year>2018</year></pub-date><volume>18</volume><issue>9</issue><fpage>631</fpage><lpage>636</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Commercial Publisher «New Technologies», 2018</copyright-statement><copyright-year>2018</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Commercial Publisher «New Technologies»</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Commercial Publisher «New Technologies»</copyright-holder><license xlink:href="https://mech.novtex.ru/jour/about/submissions#copyrightNotice" xlink:type="simple"><license-p>https://mech.novtex.ru/jour/about/submissions#copyrightNotice</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://mech.novtex.ru/jour/article/view/480">https://mech.novtex.ru/jour/article/view/480</self-uri><abstract><p>Рассматриваются основные известные электрохимические и геометрические подходы, а также их сочетания для снижения неравномерности гальванического покрытия изделий. Выявленные в результате анализа недостатки известных методов учтены в предлагаемом авторами подходе, который использует изменение силы тока на каждой анодной секции для снижения неравномерности слоя покрытия. Предлагаемый гальванический процесс в ванне со многими анодами рассмотрен в качестве объекта управления, для которого описаны входные и выходные координаты, внешние возмущающие и управляющие воздействия. Приводятся виды критериев оценки рассматриваемого подхода. Ставится задача оптимального управления силой тока на анодных секциях в гальваническом процессе нанесения покрытия на изделие с целью обеспечить наименьшую неравномерность распределения слоя покрытия за наименьшее время.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>The article describes the main electrochemical and geometrical approaches, and also their combinations intended to reduce the non-uniformity in electroplating of products. The identified drawbacks were taken into account in the approach proposed by the authors, which uses a modified amperage at each section of the anode, in order to reduce the non-uniformity of the coating layer. The essence of this approach is presented in a structural diagram and is explained in terms of the electrochemical processes occurring in the electric equivalent process in a multianode electroplating bath with different amperages. The proposed process in a galvanic bath with a number of anodes is considered as a control object, for which the input and output coordinates, external disturbance and control actions are described. The types of the evaluation criteria for the approach are presented. The task set in the article is that of the optimal amperage control on the anode sections in the process of deposition of a galvanic coating on a product in order to ensure the lowest unevenness in distribution of the coating layer in the shortest period of time. The authors consider approaches to a solution for the optimal control envisaging minima of the partial criteria and a subsequent search for the parameter of one-criterion problem for minimizing of the weighted squared deviations of each criterion from its optimum.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>гальванический процесс</kwd><kwd>ванна со многими анодами</kwd><kwd>сила тока</kwd><kwd>неравномерность распределения толщины покрытия</kwd><kwd>оптимальное управление</kwd><kwd>объект управления</kwd><kwd>критерий управления</kwd><kwd>galvanic process</kwd><kwd>multianode bath</kwd><kwd>amperage</kwd><kwd>non-uniformity of the coating thickness</kwd><kwd>optimal control</kwd><kwd>control object</kwd><kwd>control criterion</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Каданер Л. И. Равномерность гальванических покрытий. Харьков: Изд-во Харьков. гос. ун-та, 1961. 414 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Каданер Л. И. Равномерность гальванических покрытий. Харьков: Изд-во Харьков. гос. ун-та, 1961. 414 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Романенко А. В. Изучение влияния параметров реверсивного тока на равномерность цинковых покрытий, полученных в аммонийном электролите // Журнал прикладной химии. 1998. Т. 71. № 11. С. 1900-1902.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Романенко А. В. Изучение влияния параметров реверсивного тока на равномерность цинковых покрытий, полученных в аммонийном электролите // Журнал прикладной химии. 1998. Т. 71. № 11. С. 1900-1902.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Obaid N., Sivakumaran R., Lui J., Okunade A. Modeling the electroplating of hexavalent chromiumn // COMSOL Conference 2013 in Boston. URL: https://www.comsol.ru/paper/download/ 180829/obaid_paper.pdf (дата обращения: 17.01.2016).</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Obaid N., Sivakumaran R., Lui J., Okunade A. Modeling the electroplating of hexavalent chromiumn // COMSOL Conference 2013 in Boston. URL: https://www.comsol.ru/paper/download/ 180829/obaid_paper.pdf (дата обращения: 17.01.2016).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Лютов А. Г., Ишкулова А. Р. Моделирование процесса нанесения гальванических покрытий с учетом геометрических конфигураций электродов // Вестник Уфимского государственного авиационного технического университета. 2015. Т. 19, № 4 (70). С. 45-48.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Лютов А. Г., Ишкулова А. Р. Моделирование процесса нанесения гальванических покрытий с учетом геометрических конфигураций электродов // Вестник Уфимского государственного авиационного технического университета. 2015. Т. 19, № 4 (70). С. 45-48.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Teeratananon M., Pruksathorn K., Damronglerd S., Dupuy F., Vergnes H., Fenouilletc B. Duverneuilc Experimental investigation of the current distribution in mohler cell and rotating cylinder hull cell // Science Asia. 2004. V. 30. P. 375-381.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Teeratananon M., Pruksathorn K., Damronglerd S., Dupuy F., Vergnes H., Fenouilletc B. Duverneuilc Experimental investigation of the current distribution in mohler cell and rotating cylinder hull cell // Science Asia. 2004. V. 30. P. 375-381.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Соловьев Д. С., Као В. З., Литовка Ю. В. Оптимальное управление технологическим процессом нанесения гальванического покрытия в ванне c дополнительными катодами и биполярными электродами // Мехатроника, автоматизация, управление. 2016. T. 17, № 8. С. 547-553.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Соловьев Д. С., Као В. З., Литовка Ю. В. Оптимальное управление технологическим процессом нанесения гальванического покрытия в ванне c дополнительными катодами и биполярными электродами // Мехатроника, автоматизация, управление. 2016. T. 17, № 8. С. 547-553.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Helle H. P. E., Beek G. H. M., Ligtelijn J. Th. Numerical determination of potential distribution and current densities in multi-electrode systems // Corrosion. 1981. Vol. 37 (9). P. 522-530.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Helle H. P. E., Beek G. H. M., Ligtelijn J. Th. Numerical determination of potential distribution and current densities in multi-electrode systems // Corrosion. 1981. Vol. 37 (9). P. 522-530.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Konkina V. V., Solovjev D. S. Mathematical modelling of electroplating in reverse mode for the multianode bath // ISJ Theoretical &amp; Applied Science. 2015. Vol. 3, N. 23. P. 59-62.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Konkina V. V., Solovjev D. S. Mathematical modelling of electroplating in reverse mode for the multianode bath // ISJ Theoretical &amp; Applied Science. 2015. Vol. 3, N. 23. P. 59-62.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Методы классической и современной теории автоматического управления. Т. 4: Теория оптимизации систем автоматического управления / Под ред. К. А. Пупкова, Н. Д. Егупова. М.: Издательство МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2004. 742 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Методы классической и современной теории автоматического управления. Т. 4: Теория оптимизации систем автоматического управления / Под ред. К. А. Пупкова, Н. Д. Егупова. М.: Издательство МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2004. 742 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
